ネクスファイ・テクノロジー株式会社のパルス電源は優れたスイッチングによりプラズマ応用や絶縁試験に用いることができます。
プラズマ応用
高繰り返しスイッチングにより高密度プラズマを生成することが可能です。
絶縁試験器
SiCトランジスタを採用することで100 ns以下の高速スイッチングを実現しました。
ネクスファイ・テクノロジー株式会社のパルス電源は優れたスイッチングによりプラズマ応用や絶縁試験に用いることができます。
高繰り返しスイッチングにより高密度プラズマを生成することが可能です。
SiCトランジスタを採用することで100 ns以下の高速スイッチングを実現しました。